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真空镀膜与您分享

真空镀膜机与高真空的关系。

蒸发真空镀膜机工作时真空材料蒸发出来的原子或分子不要受空气分子的阻挡而直接溅落到固体的表面，这样，镀膜层形成的速度高，膜层结合力强，成膜质量也好。

反之，如果真空度低，有大量的空气分子存在，一方面，蒸发真空镀膜机蒸发出来的原子或分子与空气分子碰撞，阻碍了膜材分子的扩散，降低了膜层形成的速度，影响了膜的均匀性与结合力；另一方面，真空镀膜，空气的导热使得膜材的温度不能很快地升高，真空离子镀膜，必然要加大加热功率；更有甚者，空气的存在可能使膜材的某些成分氧化，引起成分变性；在连接着抽气机的情况下，真空镀膜价格，若不能很快完成镀膜，膜料将被抽走。

因此，真空镀膜机需要在高真空条件下进行工作；当然，真空度也不需要绝dui的高。事实上，只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距离即可。如果需要确保真空镀膜产品厚度的均匀性，可使用真空镀膜光密度在线测试仪来连续监控镀膜品质。

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真空镀膜与您分享化学气相堆积（CVD）。它是以化学反响的方法制造薄膜，原理是一定温度下，将含有制膜材料的反响气体通到基片上并被吸附，在基片上发生化学反响构成核，随后反响生成物脱离基片外表不断扩散构成薄膜。 　　束流堆积镀，结合了离子注入与气相堆积镀膜技能的离子外表复合处理技能，是一种使用离化的粒子作为蒸镀资料，在比较低的基片温度下，构成具有良好特性薄膜的技能。

接下来是化学气相沉积（CVD）。它是以化学反应的方式制作薄膜，原理是一定温度下，将含有制膜材料的反应气体通到基片上并被吸附，在基片上产生化学反应形成核，随后反应生成物脱离基片表面不断扩散形成薄膜。

束流沉积镀，结合了离子注入与气相沉积镀膜技术的离子表面复合处理技术，是一种利用离化的粒子作为蒸镀材料，在比较低的基片温度下，形成具有良好特性薄膜的技术。

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