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真空镀膜与您分享PVD镀膜加工

 PVD镀膜加工在影响产品质量的五大因素〔操作者、设备、材料、工艺方法及生产环境)中，人是位的。PVD镀膜故障的发生都与操作工技能和工作责任心有关。PVD镀膜生产管理人员对操作工指导和监督不力，这些在PVD镀膜企业较普遍存在的状况，PVD镀膜使得故障在所难免。要减少PVD镀膜生产故障，提高PVD镀膜从业人员的技能和工作责任心是十分重要的。

真空手套箱用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制ZrN膜。真空手套箱设备采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源，以及脉冲偏压电源。

(1)抽真空

5 X 10-3～6.6 x 10-13Pa本底真空。真空手套箱设备加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100～150℃。

(2)轰击清洗

真空度：通人气真空度保持在2～3Pa。轰击电压：800～1000V，真空镀膜市场，脉冲占空比20%。轰击时间：10min。

(3)手套箱

①沉积锆底层

真空度：通入气，真空度保持在s x l0-1Pa。靶电压：400—550V，靶功率15 N 30W/Crrr2。脉冲偏压：450～500V，占空比20 %。手套箱时间：5～10min。

②镀ZrN膜

真空度：通入氮气，真空镀膜生产厂家，真空度保持在(3～5) x 10-1Pa。靶电压：400～550V，靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压：150～200V，占空比80 %。手套箱时间：20～30min。

由于真空手套箱磁控溅射技术中金属离化率低，真空镀膜，不容易进行反应沉积，获得化合物膜层的工艺范围比较窄。真空手套箱设备可采用气体离子源将反应气体离化，扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源，柱状弧源还是辅助手套箱源。

PVD即物理气相沉积，是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，真空镀膜企业，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。 采用先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备，及在此基础之上与国际的工艺创新。凭借在装饰镀行业十多年的宝贵经验，为客户提供适合的涂层加工方案。




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