金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd真空镀膜设备与您分享PVD镀膜工艺溅射镀膜(Sputtering)

高能量的粒子撞击靶材时靶中的分子或原子被撞击出来的现象，此原理是以靶为阴，以基板为阳，在10-2Torr左右的Ar气氛中加以高电压时阴附近的Ar气离子化后变成Ar ，与阴相撞击，pvd真空镀膜设备价格，被Ar 离子所撞击飞出的分子或原子撞上基板而堆积形成薄膜。

溅射应用范围广，义乌pvd真空镀膜设备，利用其薄膜的机能则是以耐磨耗性、耐蚀性、耐热性抗静电或装饰性为目的，但是因附著力的问题少见于刀具的应用。适用于大宗连续性镀膜，例如手机零件等。

精密冲压模具经PVD镀膜涂覆后外表可拥有极低的摩擦系数，削减加工受力。模具经纳米PVD镀膜涂覆后外表硬度可进步5到10倍，可大幅削减外表磨耗，特别是用于高精密加工时可获得十分优异的外表质量。冷冲成形及拉伸模具经纳米涂层涂覆后可明显降低摩擦力，明显削减加工中发生的刮痕及磨耗。因此可增加寿数，大幅降低出产成本。

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pvd真空镀膜设备与您分享电子束蒸发

电子束蒸发是将镀膜材料放入水冷铜坩埚中，用高能密度的电子束轰击镀膜材料而使其蒸发的一种方法。蒸发源由电子发射源、电子加速电源、坩埚(通常是铜坩埚)磁场线圈、冷却水套等组成。在该装置中，被加热的物质放置于水冷的坩埚中，电子束只轰击其中很少的一部分物质，其余的大部分物质在坩埚的冷却作用下一直处于很低的温度，可以看作被击部分的坩埚。因此，电子束加热蒸发的方法可以避免镀膜材料和蒸发源材料之间的污染。

电子束蒸发源的结构形式可以分为直式(布尔斯)、环形(电偏转)和e形(磁偏转)3种。在一个蒸发装置内可以安置一个或者多个坩埚，这可以同时或者分别蒸发沉积多种不同物质。电子束蒸发源有下述优点:

1、电子束轰击蒸发源的束流密度高，能获得远比电阻加热源更大的能量密度，可以蒸发高熔点材料，pvd真空镀膜设备厂，如w，Mo，pvd真空镀膜设备公司，A1203等:

2、镀膜材料置于水冷铜坩埚中，可以避免发源 材料的蒸发，以及两者之间的反应;

3、热量可以直接加到镀膜材料的表面，使得热，热传导和热辐射的损失少.电子束加热蒸发方式的缺点是电子发出的一次电子和镀膜材料表面发出的二次电子会使蒸发原子和残余气体分子电离，这有时候会影响膜层质量。

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